光刻機
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EUV光刻機是生產(chǎn)最新、最強大芯片必要設備,目前由ASML獨家進行研發(fā)、制造,ASML公司掌握80%的國際市場份額,市面上無法尋找到其他替代品
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全部內(nèi)容
2025-01-29 20:43
2025-01-29 16:06
2025-01-23 19:55 來自 新華社
2025-01-13 13:56
2025-01-07 15:19 來自 科創(chuàng)板日報 張真
①據(jù)悉,大孔徑銩激光器或有望取代EUV采用的二氧化碳激光器;
②BAT系統(tǒng)使用摻銩元素的氟化釔鋰作為增益介質,從而增加激光束的功率和強度;
③此外,BAT系統(tǒng)中使用的二極管泵浦固態(tài)技術可以提供更好的整體電氣效率和熱管理。
②BAT系統(tǒng)使用摻銩元素的氟化釔鋰作為增益介質,從而增加激光束的功率和強度;
③此外,BAT系統(tǒng)中使用的二極管泵浦固態(tài)技術可以提供更好的整體電氣效率和熱管理。
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2025-01-06 15:26 來自 臺灣電子時報
2024-12-22 22:39
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2024-11-15 12:47 來自 ChosunBiz
2024-11-14 20:23
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2024-11-14 10:44
2024-11-09 01:23
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