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光刻機
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EUV光刻機是生產(chǎn)最新、最強大芯片必要設備,目前由ASML獨家進行研發(fā)、制造,ASML公司掌握80%的國際市場份額,市面上無法尋找到其他替代品
全部內(nèi)容
2025-01-07 15:19 來自 科創(chuàng)板日報 張真
①據(jù)悉,大孔徑銩激光器或有望取代EUV采用的二氧化碳激光器;
②BAT系統(tǒng)使用摻銩元素的氟化釔鋰作為增益介質,從而增加激光束的功率和強度;
③此外,BAT系統(tǒng)中使用的二極管泵浦固態(tài)技術可以提供更好的整體電氣效率和熱管理。
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2024-12-19 15:25 來自 學習時報
①工業(yè)和信息化部將氟化氪光刻機與氟化氬光刻機列入電子專用設備重要位置,體現(xiàn)中國在光刻機自主研發(fā)領域取得的重大進展。
②目前最先進的EUV光刻技術應用于2nm制程節(jié)點的芯片量產(chǎn),仍在持續(xù)優(yōu)化中,并探索成本較低的下一代光刻技術。
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